도파관 위상 정합
이 발명품은 하나의 에너지에서 다른 에너지의 유용한 결합을 잠재적으로 허용하는 임의의 특성을 가지고 설계된 도파관이다. 이같은 것이 사용되는 것은 레이저빔의 주파수 배증이다.하나의 에너지에서 다른 에너지의 유용한 결합을 잠재적으로 허용
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89 / 866 페이지MMIC 냉각 펄스 위상 검출기
이 발명품은 고주파 과도 입력 신호 해석을 위한 새로운 위상 검출기이다. MMIC는 기준 펄스와 입력 펄스 사이의 전승 선로상의 GHz 범위에서 충돌 사건을 포획하기 위해 사용하는 다이오드 탭의 다수를 가진 전송 선로를 포함하며 그 신호의 특성을 해석한다. 예를 들어 진폭 위상 시간 정보는 트리거링 클록 보간을 통하여 2개의 신호는 얻어지며 데이터 복조 그리고 다른 응용을 위해 이용된다.기준 펄스와 입력 펄스 사이의 전승 선로상의 GHz 범위에서 충돌 사건을 포획하기 위해 사용하는 다이오드 탭의 다수를 가진 전송 선로를 포함, 그 신호의 특성을 해석
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- 2001-03-01
비선형 임피던스 변압기
이 발명품은 L-C 섹션으로 구성되는 비선형 임피던스 변압기이다 각 섹션의 임피던스는 입력과 출력값 사이의 로그적으로 스케일 된다. FET 드라이버는 비선형 임피던스 변압기의 통합 버전으로서 동일 기판상에 집적화될 수 있다. 이와 같은 경우에 첫 번째 섹션의 입력 임피던스는 FET의 출력 임피던스에 설정된다.전력 전달 효율, 크기와 손실 최소화, 보다 늦은 입력 천이 시간 사용, 설계 방정식 도출
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- 2001-03-01
MOS 게이트 전극을 위한 SiGe
이 발명품은 대형 디스플레이 드라이버 응용을 위한 Ge/Si 합금 박막에서 MOS 트랜지스터 제작을 위한 새로운 기술을 제안한다. 박막 MOS 트랜지스터들은 Ge/Si 증착과 도핑 기술 이용에 의해 섭씨 500도 이하의 온도에서 제작되었다. 제작된 트랜지스터들은 표준 공정 기술을 이용한 실리콘막에서 제작된 박막 트랜지스터와 비교하여 전기적 특성이 중요하게 개선되었다.저온 처리, 고속, 짧은 공정 시간
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- 2001-03-01
근방계 음향 현미경
이 발명품은 표적 물체의 원자 준위 검사를 위한 음향 현미경 어셈블리이다. 이 현미경은 상위 표면상의 산화아연 압전 박막과 하위 표면상의 형상팁을 가진 캔틸레버 팔을 포함한다. 이 어셈블리는 표적 물체에 의해 반사된 음향 신호들을 수신하거나 표적 물체를 통하여 전파된 음향 신호를 수신할 수 있다. 이 어셈블리를 이용한 하나의 방법은 전송된 고주파 음향 신호의 공진 주파수 측정에 의한 다양한 위치에서 표적 물체의 특성 측정과 표적 물체의 주사 동안 압전 박막에의 연속파에 적용할 수 있다.위상 측정의 정밀도와 분해능 증가, 보다 높은 초음파 주파수 사용
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- 2001-03-01
음향 방사압을 이용한 마이크로머신 유체 펌프
이 발명품은 마이크로 채널에서의 유체와 세로 음향파의 상호 작용에 의해 펌프된 유체에서의 마이크로 펌프이다. 마이크로 펌프는 압력 구매 유도의 채널속으로 세로 방향파가 방향을 가지고 고주파 입력에 음향 트랜스듀서 응답을 가진다.이동 부품 없음, 마이크로머신 기법에 의한 제작 용이, 제어 전자 공학 통합 용이, 유체에서 임의 거품 제거, 유체 흐름 전기적 제어
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- 2001-03-01
필드 프로그램 가능 MCM 시스템을 위한 회로와 내부 결합 프레임 구조
이 발명품은 전기적으로 프로그래밍 가능한 칩내부 결합 구조이다. 다중칩 시스템은 고정 도체 리드를 포함하는 기판상에 실장된 많은 집적 회로로 구성되었으며 이 구조는 고속이며 집적 회로 사이에 유연한 프로그램 가능 결합을 가지고 있으며 이것이 성능을 개선하고 다중칩 시스템의 유연성을 증가시킨다.사용자 프로그램 가능, 배열에 사용할 때 부가적인 특수 스위칭 필요성 제거
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- 2001-03-01
반도체 레이저를 위한 홀로그래픽 정정
많은 장점이 있음에도 불구하고 레이저 다이오드들은 소스의 대형 어스펙트비의 결과로 그들의 출력빔의 품질에서 원래부터 부족을 가지고 있었다. 따라서 발명자들은 타원성과 레이저 다이오드 비점수차를 위한 연속적으로 수집한 홀로그래픽 평형을 개발하였다. 이 소자는 표준 고효율 홀로그래픽 기록 재료를 사용하여 유용한 재귀 홀로그래픽 기록 기법을 이용하여 제작하였다.통신, 데이터 저장과 영상에서 현재의 많은 응용과 비교하여 레이저 다이오드에서의 결핍 보정, 굴절 광학 시스템보다 부피가 적고 저비용
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- 2001-03-01
이리듐 기반 수은 미세 전극 배열: 수양액 용액에서 중금속을 위한 센서
이 발명품은 수중에서 용해된 중금속 이온 해석을 위한 저비용, 고성능 마이크로 센서이다. 이 센서는 매우 희박한 이온 집중을 측정할 수 있는 “양극 스트리핑 볼트 측정” 이라 불리는 전기 화학적 기법으로서의 장점을 가지고 있으나 소형화하지 못하고 있었다. 종래의 큰 전극보다 미세한 이리듐 전극들이 실리콘 유리 또는 세라믹과 같은 기판상에 마이크로 리소그래피를 이용하여 제작하였다. 이 센서는 전기 화학적으로 발생하고 전기적으로 외부 접속으로 제작된 것을 제외하고 실리콘 탄화 또는 실리콘 질화와 같은 플라스마 증착 박막을 이용하여 절연하였다. 전극 위치에서 작은 수은 반구들은 전기 도금에 의해 형성되었다. 이 장치들은 매우 적은 비용으로 대량 생산할 수 있으며 처리할 수 있다.부가적인 전해질 없이 천연수 사용 가능, 저비용
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- 2001-03-01
채색 초점 연필
이 발명품은 확장된 초점 깊이를 가지는 초점 연필빔 개발을 위한 초점 다중 모드 레이저 다이오드의 광학 시스템이다. 이 시스템은 세로 컬러 분산을 고려하기 위한 2개의 홀로그래픽 광요소(HOE)로 구성되며 또한 측면 염색 효과를 감쇄한다. 결과빔들은 거의 회절 제한 1/e2 스폿 크기를 가지며 상대적으로 오직 약한 배경 조사를 받는다.방사 표적을 위한 거리가 잘 정의되지 않는 응용을 위한 확장 초점 깊이 허용
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원방계 광학 현미경을 가진 리소그래피를 위한 시스템
이 발명품은 적당한 수율을 가진 실리콘 웨이퍼 상에 0.1 미크론 특징을 생성할 수 있는 리소그래피 시스템이다. X선 리소그래피에 기반한 현재의 시스템은 대형이며 부피가 크고 비싸다. 이 발명품은 비용을 줄이며 소형이며 다른 시스템과 비교하여 효과적이다. 포토 레지스터 재료상에 패턴을 기록하기 위하여 평면 근접장 광학 현미경의 배열에 이 시스템을 사용한다.비용을 줄이며 소형이며 다른 시스템과 비교하여 효과적
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평면 근방계 광학과 힘 현미경
이 발명품은 현미경의 새로운 형태 속에 존재하는 다수의 부품으로 조합된다. 광학 현미경 결과는 원자력간 현미경으로부터의 기법을 이용하여 표면에 매우 근접한 평면 광학 도파관에 사용한다. 현미경 결과는 광파장의 조각 분해능에서 광에너지를 수송할 수 있으며 표준 기법을 이용하여 실리콘 웨이퍼 상에 완전하게 구성할 수 있다.광파장의 조각 분해능에서 광에너지를 수송할 수 있으며 표준 기법을 이용하여 실리콘 웨이퍼 상에 완전하게 구성
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반도체 웨이퍼상의 입자 검출을 위한 소자
이 발명품은 반도체 웨이퍼 상에 결함 검출을 위한 ARIM 탐침자의 거대 배열로 사용한다. 선폭 축소로서 결함 검출을 위한 새로운 접근은 필요하게 될 것이다. 이것은 결함 검출 시스템의 차세대 대표이다.선폭 축소로서 결함 검출을 위한 새로운 접근, 결함 검출 시스템의 차세대 대표
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다중 파장 수직 공동 표면 방사 레이저와 파장 의존 검출기 평면을 이용한 일대다 동시 광학 2차원 평면 공정
이 발명품은 광통신 채널들을 동시에 그리고 재배열 가능하게 구성하기 위한 광통신 장치이다. 이 장치는 1대 다 2차원 광평면의 동시와 재배열 가능 통신 설비를 위한 WDM에 사용된다. 이 장치는 광평면 결합 시스템 기능성을 극적으로 증가시킨다. 이같은 시스템은 각 전송 픽셀 속으로 몇 개의 다중 파장 VCSEL(수직 공동 표면 방사 레이저)의 조합과 각 파장의 흡수와 나머지에 투명하게 되는 중요 검출 평면속으로 파장 선택성의 조합으로 구현되었다.하나의 소스 평면으로부터 많은 다른 수신 평면까지 동시에 통신을 위한 능력, 동적 재배열 가능 결합, 시스템 용량의 중요 개선
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프로그램 가능 결합 구조를 위한 회로 스타일과 논리 패밀리
이 발명품은 고속 장소 효율성 유연한 프로그램 가능 접속 구조를 채택한 회로 시스템이다. 프로그램 가능 접속 구조는 프로그램 가능 수동 스위치에 의해 접속된 도체 노드의 다수로 구성되어 있으며 이 회로는 무시할 수 있는 가산 전파 지연과 구동기 트랜지스터의 다수에서 최소 잉여성을 가진 양방향 반복기로서 동작하며 보다 빠르고 보다 장소에 효율적인 회로이다.양방향, 모듈러, 현재의 회로보다 전파 지연과 레이아웃 면적 축소, 입력 신호 상승 시간대 하강 시간 특성 개선
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조합 원자력, 근접장 광학 현미경을 위한 광감도 캔틸레버
광다이오드 광이 보다 효율적으로 수집할 수 있는 캔틸레버 팁을 가지고 있는 개선된 근방계 광학 현미경광다이오드 광이 보다 효율적으로 수집할 수 있는 캔틸레버 팁을 가지고 있는 개선된 근방계 광학 현미경
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모놀리닉 이산 파장 분광기
특허된 이산 파장 분광기는 검출기 상에 집적 실장된 회절 격자로 구성되어 있다. 입사광은 회절 격자에 의하여 이산 파장 분광기의 파장 성분 속으로 차단된다. 다른 파장들은 다른 각에서 회절됨으로서 검출기 상의 특수한 위치로 파장이 마주침으로서 특수한 색의 식별을 쉽게 한다. 256개의 검출기를 포함하고 검출기 배열이 가능하며 따라서 가시 거리 2nm보다 작은 파장 분해능을 가진다. 마이크로 분광기는 마이크로머신화되고 측면상에 수 밀리미터까지 측정된다. 다른 사용에 덧붙이며 이 분광기는 컬러 인쇄에서 컬러 평형을 위해 이상적이다. 종종 프린터에 의한 컬러 인쇄는 모니터 상의 이미지의 색상과 불일치 한다. 모니터 컬러 출력 인사 이류에서 잉크젯 헤드의 팁에 이 분광기를 놓음으로 어떤 색상차 중간 보정을 위해 컴퓨터로 연동시킬 수 있다.소형, 낮은 제조 단가
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모놀리닉 집적 Potentiostat
모놀리닉 집적 전위 정전은 양극과 음극 영역 모두에서 다중화기 이용 전극 시험의 전위 전전 제어를 마련하기 위해 사용하는 범용의 전위 정전 시험 시스템이다. 전류 입력, 자동 크기, 이중 기울기 AD 컨버터는 컨버터와 관련된 스케일 인자를 효율적으로 조정하기 위하여 입력 전류의 통합 주기 조정을 위한 방법을 포함한다. 컨버터의 적분기 회로는 오프셋 전압으로 인한 적분 오차를 효과적으로 제거하기 위하여 적분기 회로의 증폭기와 관련한 오프셋 전압을 위한 적분기 회로의 적분 캐패시터의 사전 충전을 위한 방법을 포함하고 있다. 적분 캐패시터 사전 충전과 관련된 PMOS 스위칭 트랜지스터는 PMOS 스위칭 트랜지스터를 통하여 캐패시터로부터 누설 전류를 최소화함으로써 적분 캐패시터 사이의 전압이 n우물 바이어스 전압과 근사적으로 진폭이 같게 형성되어 있다.온칩 레이저 트림 저항 또는 정합 이산을 요구하지 않음
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픽셀 레벨 A/D 변환을 가진 CMOS 영역 영상 센서
통합 픽셀 레벨 처리를 가진 새로운 영역 영상 센서 기술이 개발되었다. 이 영상 센서는 CMOS 공정으로 구축되었고 따라서 저비용이며 즉시 디지털 처리할 수 있게 직접화되었다. 이 영상 센서는 출력 전류들이 충돌광의 진폭에 관련한 출력 전류의 광다이오드 2차원 배열로 구성되었다. 각 픽셀에서의 전류는 시그마 델타 변조기를 이용하여 디지털 스트링은 즉시 전환된다. 이 데이터는 행렬 디코더와 간단한 검출 증폭기들을 이용하여 디지털 메모리에 대한 동일한 방법에서 배열을 판독한다. 따라서 입력과 마찬가지로 센서의 출력은 모두 디지털이며 워크스테이션 네트워크상에 비디오 회의와 같은 디지털 응용에 접합하게 적용할 수 있다. 이 센서는(등가 CCD 영상 센서의 10%보다 적은) 낮은 전력을 소비하며 따라서 비디오 전화와 같은 휴대용 기기에 적합하다. 간단한 픽셀 레벨 압축은 출력 데이터에서 충분한 감소를 마련한 센서로 집적화 할 수 있다. 몇 가지 시험칩들이 제작되었으며 MOSIS를 통하여 마련된 0.8미크론 3층 금속 CMOS 기술에서 완전 시험하였다. 광다이오드와 A변환 회로를 포함한 0.5미크론 3층 금속 CMOS 공정 각 픽셀은 30%의 fill factor를 가진 거의 15×15 미크론 평방에 실장 되었다. 따라서 640×480(NTSC 표준) 센서의 크기는 11×11mm 제곱보다 작다.픽셀 레벨 데이터 해석과 처리
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광리소그래피를 위한 이중 마스크
마이크론 전자 공학 기판 패터닝 시스템과 방법은 방사원과 마이크로 전자 공학 기판 사이의 방사 경로에서 마스크 패턴의 2개 또는 그 이상의 복사에 사용한다. 2 또는 그 이상의 복사들을 방사 경로에 따라 하나의 다른 곳으로부터 축으로 위치하며 방사 경로를 따라 방사 경로에서 마스크 패턴의 다중 복사를 가진 방사의 상호 작용 결과로서 마이크로 전자 공학 기판속으로 영상된다. 마스크 패턴의 단일 복사와 비교하여 증가하는 깊이에서 마스크 패턴은 영상된다. 마스크 패턴의 2 또는 그 이상의 복사들은 투과와 굴절 마이크로 전자 공학 기판 영상 시스템의 초점 깊이를 증가시키는데 사용할 수 있다. 마스크 복사들은 동일하거나 또는 희망하는 특징 차원에 상대적으로 바이어스 될 수 있다. 종래의 마이크로 전자 공학 기법들은 마스크 제작과 마이크로 전자 기판 마스크 패턴의 첫 번째와 두 번째 복사 사이의 정렬을 확실하게 하기 위해 사용되었다.희생 분해능이 없는 초점의 깊이 증가, 복잡한 마스크 절차 요구 없음, 영상 시스템의 재설계와 수정 요구 없음
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