일반기술
재료 > 기타 금속재료
다음의 조성식, DyxFeBz 이때, x,y,z는 원자%로서 25<=x<=30, 56<=y<=70, 0<=z<=15, (단, x+y+z=100)으로 이루어진 희토류-철계 자기변형 합금.1. 일반식(1)로 표시되는 신규한 유기주석 말로네이트 유도체. 일반식(1)에 있어서 R은 페닐, 시클로헥실, n-부틸, 3-메톡시-3-옥소프로필, 메틸, t-부틸, 염소기등을, x는 2 또는 3을, R`는 비고리치환기가 치환될 때에는 티오메톡시, 메틸기를, 고리치환기가 치환될 때에는 에틸렌디티오, 메틸렌디티오, 아세틸렌디티오기를 표시한다.2. 일반식(2)의 유기주석 할라이드와 일반식(3)의 말로네이트 유도체의 금속염을 할로메탄, 알콜 또는 물등의 용매존재하에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(1)의 유기주석 말로네이트 유도체의 제조방법. 일반식(2)에 있어서 R은 페닐, 시클로헥실, n-부틸, 3-메톡시-3-옥소프로필, 메틸, t-부틸, 염소기등을, x는 2 또는 3이어야 한다. 일반식(3)에 있어서 나트륨, 칼륨등을 R`는 비고리치환기가 치환될 때에는 티오메톡시, 메틸기를, 고리치환기가 치환될 때에는 에틸렌디티오, 메틸렌디티오, 아세틸렌디티오기로 구성된다. 3. 제2항에 있어서, 용매로 디클로로메탄, 클로로포름, 에틸알콜, 메틸알콜 또는 물중에서 ㅂ나응시키거나, 이들의 혼합용매중에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(1)의 유기주석 말로네이트 유도체의 제조방법.4. 제2항에 있어서, 반응온도를 -25℃~60℃에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(1)의 유기주석 말로네이트 유도체의 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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일반기술
화학 > 기타 무기화학
일반식1)로 표시되는 폴리실라잔 화합물 상기식에서 R1,R2는 각메틸기 또는 아미드기이거나 R2가 아미드인 경우 R1은 메틸기 또는 수소이고, 0.11. 일반식(1)로 표시되는 폴리실라잔 화합물 상기 식에서 R1, R2는 각각 메틸기 또는 아미드기이거나 R2가 아미드인 경우 R1은 메틸기 또는 수소이고, 0.1≤x≤1이고 0≤y≤0.9이며, 분자량은 2,600-100,000이다.2. 제1항에 있어서, 분자량이 10,000-79,000인 것을 특징으로 하는 폴리실라잔 화합물.3. 일반식(2)의 비스실릴메탄과 암모니아를 반응시키고, 얻어진 저분자량 폴리실라잔을 고분자와 반응시키는 것으로 이루어지는, 일반식(1)의 폴리실라잔의 제조방법. 상기 식에서 R1, R2는 각각 메틸기 또는 아미드기이거나 R2가 아미드인 경우 R1는 메틸기 또는 수소이고, 0.1≤x≤1이고 0≤y≤0.9이며, 분자량은 2,600-100,000이고, R3, R4는 각각 메틸기 또는 염소이거나 R4가 염소인 경우 R3은 메틸기 또는 수소이다. 4. 제3항에 있어서, 상기 일반식(2)의 비스실릴메탄이, R3 또는 R4가 서로 같거나 다른 2종류 이상의 비스실릴메탄의 혼합물인 것을 특징으로 하는 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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일반기술
전기·전자 > 전자부품
평면상으로 절곡형성된 히터 선(1)과 판상체의 히터 판(2)과 히터 선(1)이 히터 판(2)과 일정간격을 유지한 상태로 히터 판(2) 위에 지지되도록 하는 히터 선 지지구(3)와 히터 판(2)의 하부및측면에 설치되는 하부방열판(5A) 및 측면 방열판(5B)으로 구성됨을 특징으로 하는 화학증착 장치용 히터.1. 평면상으로 절곡형성된 히터 선(1)과 판상체의 히터 판(2)과 히터 선(1)이 히터 판(2)과 일정간격을 유지한 상태로 히터 판(2)위에 지지되도록 하는 히터 선 지지구(3)와 히터 판(2)의 하부 및 측면에 설치되는 하부 방열판(5a) 및 측면 방열판(5)으로 구성됨을 특징으로 하는 화학증착 장치용 히터.2. 제1항에 있어서, 히터 선(1)은 몰리브덴 또는 텅스텐으로 이루어짐을 특징으로 하는 화학증착 장치용 히터.3. 제1항에 있어서, 히터 판(2)은 중앙부에 기판지지대 회전축 삽입구멍(2a)이 형성됨을 특징으로 하는 화학증착 장치용 히터.4. 제1항에 있어서, 히터 선 지지구(3)에는 히터선 통과공(3a)과 고정공(3b)가 상,하로 관통형성됨을 특징으로 하는 화학증착 장치용 히터.
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
이온 중합법에 의하여 친수성과 소수성 고분자 블록 공중합체 제조법1. (가) 벤젠, 톨루엔, 시클로헥산 및 헥산으로 이루어진 군으로부터 선택된 비극성 용매 중에서, 알킬리튬을 개시제로 사용하여 하기 식 (3)의 비닐계 단량체 또는 하기 식(4)의 디엔계 단량체를 리빙중합하는 단계 및 (나) 알칼리 금속 알콕사이드와 알킬리튬과의 몰비가 10~0.5로 되는 양의 알칼리금속 알콕사이드를 (가) 단계에서 제조된 리빙 고분자와 혼합한 다음, 하기식(1)로 나타내는 에폭사이드계 단량체를 연속 첨가하여 블럭 공중합시키는 단계로 이루어진 것이 특징인 알킬렌옥사이드와 비닐계 또는 디엔계 단량체와의 블럭공중합 방법. 상기 식에서, R1,R2,R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 저급 알킬 또는 페닐기이고, R`1 및 R`3는 각각 독립적으로 수소 원자, 페닐기, 에스테르기, 아크릴레이트기 또는 치환된 페닐기이며, R`3,R`4,R`6,R`7 및 R`8은 수소 원자 또는 메틸기이고, R`5는 수소 원자, 메틸기 또는 클로로기이다.2. 제1항에 있어서, 에폭사이드계 단량체가 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드인 방법.3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 알킬 리튬은 n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬 또는 tert-부틸 리튬이고, 알칼리금속 알콕사이드는 하기 식(2)로 나타내는 것인 방법. R5- O-Mt+상기 식에서, R5는 메틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, tert-부틸 또는 아밀기이며, Mt는 피튬, 나트륨 또는 칼륨이다.
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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일반기술
전기·전자 > 기타 산업용 전기전자
서보모터(5)와 회전펌프(6) 및 디퓨전 펌프(7)을 포함하는 몸체부(1)과, 마모 시험 장치와 신호선 연결대(15)와 할로겐 램프(18) 및 가스 주입구(16)을 포함하는 장치 본체부(2)와, 이 장치 본체부 내의 상태와 펌프들의 작동 여부 및 자동 조절 밸브의 개폐상황을 나타내는 장치 조작 패널(3)과, 서보 모터를 작동시키는 조작시스템(4)로 구성되며, 진공 및 특수한 환경 분위기내에서 재료의 마찰 및 마모 시험을 수행하기 위한 장치에 있어서, 상기장치 본체부는 원형 상판(33)과 하판(34) 및 측판으로 둘러싸인 진공챔버(21)내에 마련되며, 하중 공급원에 연결되고 볼 접촉대(40)과 시편볼(31)을 거쳐서 시편 디스크(32)에 이르기까지 시험 하중을 부과하는 하중 부가 장치(43)과, 이 하중 부과 장치(43)에 연결되어 이로부터의 시험 하중을 볼 접촉대(40)에 전달하고 자체의 직선 운동시 기밀을 유지하기 위하여 신축 자재한 주름관(47) 내에 수납된 하중봉(48)과, 상기 하중부과장치(43)에 의해 부과되는 시험 하중을 감지하기 위해 하중봉(48) 아래에 마련된 하중 센서(35)와, 상기 시험 하중을 시편 볼(31)에 최종적으로 전달하는 하중 전달 장치(20)과, 이 하중전달 장치(20)상에 마련되어 시편볼(31)과 시편 디스크(32) 사이에서 발생하는 마찰력을감지하기 위한 마찰력 센서(36)과, 시험하중을 부과함에 따라 하중봉(48)이 수직 하방으로 이동함에 따라 주름관(47)이 이동할때이 주름관에 발생되는 주름관의 내면적 만큼의 힘에 대한 균형과하중변동의 폭을 줄이기 위하여 주름관 내부에 하중봉(48)주위에그 길이방향으로 마련된 인장 스프링(46)을 포함하며, 상기 마찰및 마모 시험 장치는 시편 디스크(42)를 회전시키기 위해 이 시편 디스크(42)와 서보 모터(5)사이에서 연결된 마그네틱 커플링 장치(19)를 포함하는 것을 특징으로 하는 마찰및 마모 시험 장치.1. 서보 모터(5)와 회전 펌프(6) 및 디퓨전 펌프(7)을 포함하는 몸체부(1)과, 마모 시험 장치와 신호선 연결대(15)와 할로겐 램프(18) 및 가스 주입구(16)을 포함하는 장치 본체부(2)와, 이 장치 본체부 내의 상태와 펌프들의 작동 여부 및 자동 조절 밸브의 개폐 상황을 나타내는 장치 조작 패널(3)과, 서보 모터를 작동시키는 조작 시스템(4)로 구성되며, 진공 및 특수한 환경 분위기 내에서 재료의 마찰 및 마모 시험을 수행하기 위한 장치에 있어서, 상기 장치 본체부는 원형 상판(33)과 하판(34) 및 측판으로 둘러싸인 진공침버(21) 내에 마련되며, 하중 공급원에 연결되고 볼 접촉대(40)과 시편볼(31)을 거쳐서 시편 디스크(32)에 이르기까지 시험 하중을 부과하는 하중 부과 장치(43)과, 이 하중 부과 장치(43)에 연결되어 이로부터의 시험 하중을 볼 접촉대(40)에 전달하고 사체의 직선 운동시 기밀을 유지하기 위하여 신축자재한 주름관(47) 내에 수납된 하숭봉(48)과, 상기 하중 부과 장치(43)에 의해 부과되는 시험 하중을 감지하기 위해 하중봉(48) 아래에 마련된 하중 센서(35)와, 상기 시험 하중을 시편 볼(31)에 최종적으로 전달하는 하중 전달 장치(20)과, 이 하중 전달 장치(20) 상에 마련되어 시편 볼(31)과 시편 디스크(32) 사이에서 발생하는 마찰력을 감지하기 위한 마찰력 센서(36)과, 시험 하중을 부과함에 따라 하중봉(48)이 수직 하방으로 이동함에 따라 주름관(47)이 이동할 때 이 주름관에 발생되는 주름관의 내면적 만큼의 힘에 대한 균형과 하중 변동의 폭을 줄이기 위하여 주름과 내부에 하중봉(48) 주위에 그 길이 방향으로 마련된 인장 스프링(46)을 포함하며, 상기 마찰 및 마모 시험 장치는 시편 디스크(42)를 회전시키기 위해 이 시편 디스크(41)와 서보 모터(5) 사이에서 연결된 마그네틱 커플링 장치(19)를 포함하는 것을 특징으로 하는 마찰 및 마모 시험 장치.2. 제1항에 있어서, 하중 전달 장치(20)의 수직 이동이 하판(34)에 고정된 안내봉(58)을 축심으로 볼 접촉대(40)이 결합된 리니어 베어링(50)에 의해 안내되며, 시편 고정된(60)의 회전 마찰 저항을 최소로 하기 위하여 협동 작용하는 드러스트 베어링(55)와 테이퍼 롤러 베어링(54)를 마련하고, 시편 고정대(60)의 3개 위치에서 시편 볼(31)을 시험하여 하중을 마찰력으로 전달하고, 하중 전달 장치의 자중을 지지하고 하중 변동의 요인을 줄이기 위하여 안내봉(58)의 상부와 볼 접촉대(40)의 하부 사이에 압축 스프링(57)을 마련한 것을 특징으로 하는 마찰 및 마모 시험 장치.3. 제1항에 있어서, 서로 모터(5)로부터 밸트와 풀리에 의해서 고리형 외측 마그네트(65)가 결합된 외측 회전봉(68)을 회전시키면 분리컵(63)의 내부에 있는 원형 내측 마그네트(64)가 결합된 디스크 홀더(62)가 자력에 의해서 동력이 전달되는 구조로 고정된 분리컵(63)에서 O-링으로 기밀을 유지시키는 구조로 회전운동의 동력을 전달시 축을 분리하여 기밀을 유지하고 동력을 전달하도록 구성된 것을 특징으로 하는 마찰 및 마모 시험 장치.4. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 하중 부과 장치가 공압에 의한 하중 부과 방식으로 공압 실린더(43)과 실린더 고정대(44)를 포함하는 것을 특징으로 하는 마찰 및 마모 시험 장치.5. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 하중 부과 장치가 추 하중 부과 방식으로 추 안내봉(49)와 추접시(51)을 포함하는 것을 특징으로 하는 마찰 및 마모 시험 장치.6. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 오일 내에서의 마찰 및 마모 시험을 수행할 수 있도록 상부 베어링 홀더(61)을 제거하고 오일통(71)을 설치한 것을 특징으로 하는 마찰 및 마모 시험 장치.7. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 마그네틱 커플링 장치(19)가 서보 모터(5)에 연결되어 이의 회전에 의해 회전하는 외측 회전봉(68)에 결합된 외측 마그네트(65)와, 분리컵(63) 내부에 있고 외측 마그네트(65)의 회전에 의해 자력에 의해서 회전되어 이에 연결된 디스크 홀더(62)를 회전시켜 시편 디스크(32)를 회전시키는 내측 마그네트(64)를 포함하는 것을 특징으로 하는 마찰 및 마모 시험 장치.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
내지 10중량% 크롬을 함침시킨 알루미나 촉매 존재하에 디클로메탄과 무수불화수소산을 1:2 내지 1:10의 몰비로 반응온도 200 내지 500도C, 반응접촉 시간 5 내지 40초, 반응압력 상압 내지 10기압에서 기상반응시키는 디플루오르매탄의 제조방법.1. 2 내지 10중량% 크롬을 함침시킨 알루미나 촉매 존재하에 디클로로메탄과 투수불화수소산을 1:2 내지 1:10의 몰비로 반응온도 200 내지 500℃, 반응접촉시간 5 내지 40초, 반응압력 상압 내지 10기압에서 기상반응시키는 디플루오르메탄의 제조방법.2. 제1항에 있어서, 촉매활성이 저하되면 알루미나 촉매를 300 내지 600℃의 온도에서 촉매 1그람당 분당 0.25 내지 1ml의 공기 또는 0.05 내지 0.2ml의 산소를 공급하여 촉매를 재생시켜 사용하는 디플루오로메탄의 제조방법.3. 2 내지 10중량% 크롬을 함침시킨 알루미나 촉매 존재하에 디클로로메탄과 무수불화수소산을 1:2 내지 1:10의 몰비로 디클로로메탄 1몰당 0.01 내지 1.5몰의 공기 또는 0.002 내지 0.3몰의 산소를 공급하면서 반응온도 200 내지 500℃, 반응접촉시간 5 내지 40초, 반응압력 상압 내지 10기압에서 기상반응시키는 디플루오로메탄의 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
일반식(II)의 유기주석 할라이드와 말로네이트유도체의 에스테르를 가수분해하여 생성된 일반식(III)의 말로네이트 유도체의 금속염을 적절한 몰비로 반응시켜서 일반식(I)의 유기주석 말로네이트 유도체를 제조하는 것이다. <구성>일반식(II)의 유기주석 할라이드와 일반식(III)의 말로네이트 유도체의 금속염을 할도메탄,알콜 또는 물통의 용매존제하에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 유기주석 말로네이트 유도체를 구성한다.일반식(II)에 있어서 R은 페닐,시클로 헥실,n-부틸,3-메톡시-3-옥소프로필,메틸,t-부틸,염소기 등을 X는 2 또는 3이어야 한다.일반식(III)에 있어서 나트륨,칼륨 등을 R'는 비고리치환기가 치환될때에는 티오메톡시,메틸기를 고리치환기가 치환될때에는 에틸렌디티오,메틸렌디티오, 아세틸렌디티오기도 구성한다.1. 일반식(1)로 표시되는 신규한 유기주석 말로네이트 유도체, 일반식(1)에 있어서 R은 페닐, 시클로헥실, n-부틸, 3-메톡시-3-옥소프로필, 메틸, t-부틸, 염소기등을, x는 2 또는 3을, R`는 비고리치환기가 치환될 때에는 티오메톡시, 메틸기를, 고리치환기가 치환될 때에는 에틸렌디티오, 메틸렌디티오, 아세틸렌디티오기를 표시한다.2. 일반식(2)의 유기주석 할라이드와 일반식(3)의 말로네이트 유도체의 금속염을 할로메탄, 알콜 또는 물등의 용매존재하에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(1)의 유기주석 말로네이트 유도체의 제조방법. 일반식(2)에 있어서 R은 페닐, 시클로헥실, n-부틸, 3-메톡시-3-옥소프로필, 메틸, t-부틸, 염소기등을, x는 2 또는 3이어야 한다. 일반식(3)에 있어서 나트륨, 칼륨등을 R`는 비고리치환기가 치환될 때에는 티오메톡시, 메틸기를, 고리치환기가 치환될 때에는 에틸렌디티오, 메틸렌디티오, 아세틸렌디티오기로 구성된다.3. 제2항에 있어서, 용매로 디클로로메탄, 클로로포름, 에틸알콜, 메틸알콜 또는 물중에서 반응시키거나, 이들의 혼합용매중에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(1)의 유기주석 말로네이트 유도체의 제조방법.4. 제2항에 있어서, 반응온도를 -25℃~60℃에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(1)의 유기주석 말로네이트 유도체의 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
VTR 자기헤드용 접합유리에서 요구되는 제반특성을 동시에 만족시킬 수 있는 새로운 접합유리 조성을 제공하는데 목적이 있다. PbO 47-57wt%, SiO2 24-32wt%, B2O3 5-9wt%, ZnO 4-8wt%, Na2O 0-6wt%, K2O 0-6wt%, Al2O3 0-4wt%의 조성으로 구성한다. 열팽창 계수 차이에 따른 유리균열이나 출력저하 화학적 반응에 의한 유효트랙폭 감소로 생기는 출력저하 기포생성으로 인한 제반 문제, 내화학성, 내마모성 저하에 따른 제반 문제등이 제거된 신뢰성이 높은 고품위 자기헤드의 제작이 가능하다.1. PbO 47~57wt%, SiO2 24~32wt%, B2O3 5~9wt%, ZnO 4~8wt%, Na2O 0~6wt%, K2O 0~6wt%, Al2O3 0~4%의 조성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 자기헤드용 접합유리.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
폴리페닐렌 설파이드, 2,6-히드록시나프토산과 히드록시벤조산의 축합 또는 2,6-히드록시나프토산, 테레프탈산 및 아미노페놀의 축합으로 생성되는 열방정 액정 고분자 및 폴리설폰을 배합한 기계적 물성이 월등하게 향상된 현장 복합 성형품 제조용 조성물 및 그 성형품을 제공하는 것이다. 70중량%의 2,6-히드록시나프토산 및 30중량%의 히드록시벤조산의 축합물인 5-10중량% 열방성 액정 고분자, 60-80중량%의 폴리페닐렌 설파이드 및 15-30중량%의 폴리설폰으로 구성된다.285-290도에서는 용융 압출이, 또한 320-350도에서는 용융 사출 성형이 가능하며, 얻어진 성형품은 기존의 그성분계 복합 제품에 비해 기계적 강도가 월등히 개선된다.1. 60-80중량%의 폴리페닐렌 설파이드 5-10중량%의 열방성 액정 고분자 및 15-30중량%의 폴리설폴으로 이루어짐을 특징으로 하는 현장 액정 복합 제품 성형용 조성물.2. 제1항에 있어서, 열방성 액정 고분자가 70중량%의 2,6-히드록시나포토산 및 30중량%의 히드록시벤조산의 촉합물임을 특징으로 하는 조성물.3. 제2항에 있어서, 열방성 액정 고분자가 73중량%의 2,6-히드록시나포토산 및 27중량%의 히드록시벤조산의 축합물임을 특징으로 하는 조성물.4. 제1항에 있어서, 열방성 액정 고분자가 60중량%의 2,6-히드록시나포토산, 20중량%의 데레프탈산 및 20중량%의 아미노페놀의 축합물임을 특징으로 하는 조성물.5. 제1항에 있어서, 조성물이 285-290℃ 및 320-350℃에서 각각 용융 압출 및 용융 사출 성형이 가능한 것임을 특징으로 하는 조성물.6. 60-80중량%의 폴리페닐렌 설파이드, 5-10중량%의 열방성 액정 고분자 및 15-30중량%의 폴리설폰으로 이루어진 조성물을 사출성형하여 제조한 성형품.7. 60-80중량%의 폴리페닐렌 설파이드, 5-10중량%의 열방성 액정 고분자 및 15-30중량%의 폴리설폰으로 이루어진 조성물로부터 제조된 복합 섬유.
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
화학 > 기타 무기화학
디클로로메틸기를 갖는 실란화합물과 일반식(II)와 같은 염화수소 혹은 반응온도에서 염화수소를 발생시키는 알킬클로라이드의 혼합물을 구리 촉매하에서 금속 규소와 직접 반응시켜 일반식(IV)과 같이 디클로로실릴기를 두개 가진 트리스메탈과 일반식(V)의 디클로로실릴기 하나와 트리클로로실릴기 하나를 가진 트리스메탄 그리고 일반식(IV)에서와 같이 트리클로로실릴기 두개를 가진 트리스메탄을 동시에 제조하기 위한 것이다. 일반식(I)로 표시되는 화합물과 일반식(II)로 표시되는 화합물의 혼합기체를 반응온도 250-350도C에서 금속규소와 반응시켜 일반식(III)의 화합물을 제조하되 R1,R2,R3은 독립적으로 메틸기 또는 염소이고 R은 수소, 탄소수가 1 내지 4인 저급알킬기, 또는 CH2CH2Cl이고 R4,R5는 모두 SiHCl2 이거나 또는 R4가 SiHCL2이면 R5는 SiCl3이거나 R4,R5는 모두 SiCL3인 것으로 구성한다.1. 다음 일반식(3)의 화합물 상기식에서 R1,R2,R3이 독립적으로 메틸기 또는 R1이 메틸기이면 R2,R3이 모두 염소이거나, R1이 염소이면 R2와 R3가 모두 메틸기이며, R4,R5는 모두 SiHCl2이거나 또는 R4가 SiHCl2이면 R5는 SiCl3이거나 R4,R5 모두 SiCl3이다.2. 일반식(1)로 표시되는 화합물과 일반식(2)로 표시되는 화합물의 혼합기체를 반응온도 250℃-350℃에서 금속규소와 반응시켜 일반식(3)의 화합물을 제조하는 방법. 상기식에서 R1,R2,R3은 독립적으로 메틸기 또는 염소이고 R은 수소, 탄소수가 1 내지 4인 저급알킬기, 또는 CH2CH2Cl이고, R4,R5는 모두 SiHCl2이거나 또는 R4가 SiHCl2이면 R5는 SiCl3이거나 R4,R5 모두 SiCl3이다.3. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 R1,R2,R3이 모두 메틸기인 것을 특징으로 하는 제조방법.4. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 R1이 메틸기이고 R2,R3이 염소인 것을 특징으로 하는 제조방법.5. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 R1,R2가 메틸기이고, R3이 염소인 것을 특징으로 하는 제조방법.6. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 R1,R2,R3이 모두 염소인 것을 특징으로 하는 제조방법.7. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 염화수소인 것을 특징으로 하는 제조방법.8. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 R이 프로필기인 것을 특징으로 하는 제조방법.9. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 R이 n-부틸기인 것을 특징으로 하는 제조방법.10. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 R이 t-부틸기인 것을 특징으로 하는 제조방법.11. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 R이 클로로메틸기인 것을 특징으로 하는 제조방법.12. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 알킬클로라이드를 일반식(1)의 디클로로메틸기를 가진 실란에 대하여 몰비로 0.5-6배가 되도록 혼합하여 반응시키는 것을 특징으로 하는 제조방법.13. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물을 반응시킴에 있어서 염화수소와 기타 일반식(2)의 화합물을 몰비로 1:1로 혼합시키는 것을 특징으로 하는 제조방법.14. 제2항에 있어서, 반응조를 유동층 반응조 또는 나선형 교반기를 장치한 반응조인 것을 특징으로 하는 제조방법.15. 제2항에 있어서, 반응물질을 1기압에서 5기압까지의 압력하에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 제조방법.16. 제2항에 있어서, 추가로 구형의 미세분말 산성백토를 규소무게에 대하여 1-50%를 넣는 것을 특징으로 하는 제조방법.17. 제2항에 있어서, 촉매로써 금속구리나 반응조건에서 구리를 내는 구리화합물을 반응물질에 대하여 무게비로 1-20%를 사용하여 200℃-360℃에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 제조방법.18. 제17항에 있어서, 조촉매로 칼슘, 티탄, 카드뮴, 주석, 아연, 은, 마그네슘, 망간이나 그 금속화합물 중 최소한 하나를 선택하여 반응고체 전체의 0.001-5%를 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법.19. 제2항에 있어서, 접촉혼합물이 반응하여 그 양이 소모되었을 때 소모된 양만큼의 접촉혼합물을 더 넣고 연속적으로 반응시키는 것이 특징인 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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화학 > 기타 무기화학
2-아릴프로필실란들 및 그들의 제조 방법을 제조하는 것이다. <구성>R과 R'은 독립적으로 수소, C1-C4의 알킬기, 페녹시기, 플루오로, 클로로, 브로모, 메르캅토, 메르캅토메틸기이고 Ar은 벤젠고리, 나프탈렌고리, 비페닐고리등의 아릴기를 표시하며 X1과 X2 그리고 X3는 독립적으로 수소 혹은 클로로기를 표시한다. 단, X1, X2, X3가 모두 클로로기인 경우에는 R가 수소이고 R'가 클로로나 브로오기인 경우는 제외되고 R과 R'가 수소인 경우는 X1, X2, X3가 모두 클로로기일 때와 X1이 수소이고 X2와 X3가 클로로기인 경우는 제외된다. <효과>알릴클로라이드에 염화수소를 함께 혼합하여 규소와 반응하여 알릴디클로로실란과 트리클로로알릴실란의 두가지 실란들을 함께 얻을 수 있다.1. 다음 일반식(3)의 2-아릴프로필클로로실란: 상기식에서 R과 R`은 독립적으로 수소, C1-C4의 알킬기, 페녹시기, 플루오로, 클로로, 브로모, 메르캅토, 메르캅토메틸기이고 Ar은 벤젠고리, 나프탈렌고리, 비페닐고리등의 아릴기를 표시하며 X1과 X2 그리고 X3는 독립적으로 수소 혹은 클로로기를 표시한다. 단, X1, X2, X3가 모두 클로로기인 경우에는 R가 수소이고 R`가 클로로나 브로모기인 경우는 제외되고 R과 R`가 수소인 경우는 X1,X2,X3가 모두 클로로기일 때와 X1이 수소이고 X2와 X3가 클로로기인 경우는 제외된다.2. 일반식(1)의 방향족 화합물등과 일반식(2)의 알릴실란들을 알미늄클로라이드와 같은 루이스산을 촉매로하여 프리탈-크라프트 반응시키는 것을 특징으로 하는 제1항의 일반식(3)의 2-아릴프로필실란의 제조방법. 상기식에서, R,R`,X1,X2 및 X3는 제1항에서 정의한 것과 같다.3. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소이고 R`이 메틸기인 것이 특징인 제조방법.4. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소이고 R`이 에틸기인 것이 특징인 제조방법.5. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소이고 R`이 이소프로필기인 것이 특징인 제조방법.6. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소이고 R`이 플루오로, 클로로 또는 브로모기인 것이 특징인 제조방법.7. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소이고 R`이 페닐기인 것이 특징인 제조방법.8. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소이고 R`이 페녹시기인 것이 특징인 제조방법.9. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소이고 R`이 메르캅토기(-SH)인 것이 특징인 제조방법.10. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소이고 R`이 메르캅토메틸기(-CH2SH)인 것이 특징인 제조방법.11. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R과 R`이 C1-C3까지의 알킬기인 것이 특징인 제조방법.12. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 X1가 수소이고 X2와 X3가 클로로기인 것이 특징인 제조방법.13. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 X1과 X2 및 X3가 모두 클로로기인 것이 특징인 제조방법.14. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 X1와 X2가 수소이고 X3가 클로로기인 것이 특징인 제조방법.15. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R은 수소이고 R`가 제1항에서 정의된 것과 같으며 페닐고리의 2 또는 3, 4위치에 있고 X1가 수소이고 X2와 X3가 클로로기인 것이 특징인 제조방법.16. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R은 수소이고 R`가 제1항에서 정의된 것과 같으며 페닐고리의 2 또는 3, 4 위치에 있고 X1과 X2 및 X3가 모두 클로로기인 것이 특징인 제조방법.17. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R은 수소이고 R`가 제1항에서 정의된 것과 같으며 페닐고리의 2 또는 3, 4 위치에 있고 X1와 X2가 수소이고 X3가 클로로기인 것이 특징인 제조방법.18. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R과 R`이 C1-C3까지의 알킬기이고 X1가 수소이고 X2와 X3가 클로로기인 것이 특징인 제조방법.19. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R과 R`이 C1-C3까지의 알킬기이고 X1과 X2 및 X3가 모두 클로로기인 것이 특징인 제조방법.20. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R과 R`이 C1-C3까지의 알킬기이고 X1와 X2가 수소이고 X3가 클로로기인 것이 특징인 제조방법.21. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R-Ar-R`이 나프탈렌이고 X1가 수소이고 X2와 X3가 클로로기인 것이 특징인 제조방법.22. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R-Ar-R`이 나프탈렌이고 X1과 X2 및 X3가 모두 클로로기인 것이 특징인 제조방법.23. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)의 화합물이 R-Ar-R`이 나프탈렌이고 X1와 X2가 수소이고 X3가 클로로기인 것이 특징인 제조방법.24. 제2항에 있어서, 반응온도가 0℃에서 50℃까지인 것이 특징인 제조방법.25. 제2항에 있어서, 반응촉매인 알루미늄 클로라이드를 알릴클로로실란에 대하여 1-20 무게퍼센트로 사용하는 것이 특징인 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
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화학 > 기타 무기화학
트리스실릴알칸(tris (silyl) alkaness)들과 그 제조 방법을 제공하는 것이다. <구성>일반식(V)의 트리클로로알칸과 염화수소 혹은 반응중에 분해하여 염화수소를 발생하는 알킬클로라이드의 혼합기체를 일정 반응 온도에서 규소와 직접 반응 시켜 일반식(I)의 디클로실릴기를 세개 가진 트리스(실릴)알칸과 일반식(II)의 디클로로실릴기 두개와 트리클로로실릴기 하나를 가진 트리스(실릴)알칸, 일반식(III)의 디클로로실릴기 하나와 트리클로로실릴기 두개를 가진 트리스(실릴)알칸 그리고 일반식(II)의 트리클로로실린기 세개를 가진 트리스(실릴)알칸을 동시에 제조하는데 있어 R은 수소, 메틸기등이고 R'은 수소, 알킬기(C1-C4), 그리고 클로로에틸기등으로 구성한다. <효과>클로로히드로실릴기를 갖는 트리스(실릴)알칸들은 불로화결합을 가진 유기화합물에 부가반응을 하기 때문에 여러가지 유기관능기를 가진 규소화합물을 제조하는데 주요한 출발 물질이다.1. 다음 일반식(3)의 트리스(실릴)알칸단, 상기식에서 R이 케틸이거나 수소를 표시한다.2. 일반식(1)의 트리클로로알칸과 일반식(2)의 염화수소 혹은 반응중에 분해하여 염화수소를 발생하는 알킬클로라이드의 혼합기체를 일정 반응온도에서 규소와 직접반응시켜 일반식(3)의 디클로실릴기를 세개 가진 트리스(실릴)알칸과 일반식(4)의 디클로로실릴기 두개와 트리클로로실릴기 하나를 가진 트리스(실릴)알칸, 일반식(5)의 디클로로실릴기 하나와 트리클로로실릴기 두개를 가진 트리스(실릴)알칸 그리고 일반식(6)의 트리클로로실릴기 세개를 가진 트리스(실릴)알칸을 동시에 제조하는 방법.단, R은 수소, 메틸기등이고 R`은 수소, 알킬기(C1-C4), 그리고 클로로에틸기등을 표시한다.3. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 수소인 것이 특징인 제조방법.4. 제2항에 있어서, 상기 일반식(1)의 화합물이 R가 메틸기인 것이 특징인 제조방법.5. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 R`가 수소인 것이 특징인 제조방법.6. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 R`가 프로필기인 것이 특징인 제조방법.7. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 R`가 n-부틸기인 것이 특징인 제조방법.8. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 R`가 t-부틸기인 것이 특징인 제조방법.9. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 R`가 클로로에틸인 것이 특징인 제조방법.10. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 알킬클로라이드가 일반식(1)의 트리클로로알칸에 대하여 몰비로 0.5-12.0배가 되도록 혼합하여 반응시키는 것이 특징인 제조방법.11. 제2항에 있어서, 상기 일반식(2)의 화합물이 알킬클로라이드와 염화수소를 몰비로 1:1로 혼합시킨 혼합물인 것이 특징인 제조방법.12. 제2항에 있어서, 반응조가 유동층 반응조 또는 나선형 교반기를 장치한 반응조인 것이 특징인 제조방법.13. 제2항에 있어서, 반응물질을 1기압에서 5기압까지의 압력하에서 반응시키는 것이 특징인 제조방법.14. 제2항에 있어서, 구형의 미세분말 산성백토를 규소무게에 대하여 1-50%를 추가로 넣고 유동성을 향상시키는 것이 특징인 제조방법.15. 제2항에 있어서, 금속구리나 반응조건에서 구리를 내는 구리화합물을 반응물질에 대하여 무게비로 1-20%를 촉매로 사용하여 200-360℃에서 반응시키는 방법.16. 제2항에 있어서, 구리촉매의 조촉매의 칼슘, 티탄, 카드뮴, 주석, 아연, 은, 마그네슘, 망간등의 금속이나 그 금속화합물중 적어도 한가지를 선택하여 반응고체 전체의 0.01-5%를 사용하는 것이 특징인 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
저가의 니켈 또는 니켈합금을 내부전극으로 사용한 적층 자기 콘덴서용 유전체 자기로서 저산소분압의 환원분위기 소결후에도 높은 유전상수,낮은 유전손실 및 높은 절연저항이 유지되기 위한 것이다. Ba1-XSrXTi-Y-ZMTYZr2O3-Y로 표시되는 적층 자기 콘덴서용 내환원성 유전체 조성물을 사용하여 제조한 유전체 시이트에 니켈전극 페이스트를 도포한 후 다수매 순차 적층하여 산소분압 10-Mpa 내지 10-8MPa 범위의 환원분위기에서 소결하는 것으로 이루어지되 0신뢰성과 생산성을 향상시킬 수 있고 내부전극으로 니켈이외의 철 또는 코발트를 사용하여 적층 자기 콘덴서를 제조하는 경우에도 니켈을 내부전극으로 사용하는 것과 동등한 특성과 효과를 나타낸다.1. 내부전극으로 니켈 또는 니켈 합금을 사용하여 저산소 분압의 환원분위기에서 소결함으로써 이루어지는 적층 자기 콘덴서를 제조하기 위한 아래의 식으로 표시되는 적층 자기 콘덴서용 내환원성 유전체 조성물 : Ba(1-x)SrxTi(1-y-x)NiyZrzO(z-y)이때 0≤x≤0.2이고 0.005≤y≤0.1이고, 0≤z≤0.2이다.2. 아래의 식으로 표시되는 적층 자기 콘덴서용 내환원성 유전체 조성물을 사용하여 제조한 유전체 시이트에 니켈전극 페이스트를 도포한 후 다수매 순차 적층하여 산소분압 1/10exp8MPa 내지 1/10exp8MPa범위의 환원 분위기에서 소결하는 것으로 이루어지는 적층 자기 콘덴서의 제조방법; Ba(1-x)SrxTi(1-y-z)NiyZrzO(z-y)이 때0≤x≤0.2이고, 0.005≤y≤0.1이고, 0≤z≤0.2이다.
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
아크릴로니트릴 중합체의 흡수물을 용융 압출하고 이를 열안정화시킴으로써 제조한, 내열성 및 내화학성이 우수한 새로운 펄프상의 아크릴 단섬유를 제공하는 것이다. 무게비로 70%이상의 아크릴로니트릴 및 무게비로 30%이하의 공중합 가능한 단량체로 이루어진, 아크릴로니트릴 단독 중합체 또는 공중합체에, 물을 혼합한 혼합물을 밀폐 하에서 수화 용융 온도 이상으로 가열하여 무정형 용융체를 만들고, 냉각시켜 과냉각 용융상을 얻은 다음, 상온 상압 중으로 압출시켜 X선 회질 패턴에서 섬유상 결정 구조와 70% 이상의 배향도를 나타내는 압출물을 얻고, 이 연속 압출물을 100도C 내지 180도C로 유지되고 압축력이 가해지는 롤러 사이를 인장하에서 통과시켜 건조 및 연신 처리를 행한 다음 열안정화를 시킨 후, 적당한 길이로 절단하여 구성한다. 제조원가가 크게 절감되고 공해문제도 자동 해결된다.1. 적어도 무게비로 70%이상의 아크릴로니트릴 및 무게비로 30%이하의 공중합 가능한 단량체로 이루어진, 절도 평균 분자량이 10,000 내지 500,000 사이인 아크릴로니트릴 단독 중합체 또는 공중합체에, 무게비로 5% 내지 100% 사이의 물을 혼합한 혼합물을 밀폐 하에서 시차 주사 열량계(DSC)로 관찰되는 수화 용융 온도 이상으로 가열하여 무정형 용융체를 만들고, 이를 용융 온도와 고화온도 사이의 온도로 냉각시켜 과냉각 용융상을 얻은 다음, 이것을 일자형 또는 원형의 압출구를 통해 상온 상압 중으로 압출시켜 물이 압출 방향으로 자동 제거되면서 고화되어 형성되는, 밀폐된 표면 내부에 물이 빠져나간 압출 방향의 긴 공간들과 미세 피브린 둘이 나란히 배열된 단면 구조를 가지며, X선 회절 패턴에서 섬유상 결정 구조와 70% 이상의 배향도를 나타내는 압출물을 얻고, 이 연속 압출물을 100℃ 내지 180℃로 유지되고 압축력이 가해지는 롤러 사이를 인장하에서 통과시켜 건조 및 연신 처리를 행한 다음 180℃ 내지 300℃의 온도에서 1분 내지 4시간 동안 열안정화를 시킨 후, 적당한 길이로 절단하고 비터로 고해하연 0.1㎛ 내지 50㎛의 굵기 분포와 1mm내지 20mm의 길이 분포를 가지고 있고, 200℃이하에서 열적 전이 온도가 관찰되지 않는 내열성과 상온의 디메틸포름아미드에 대한 용해도가 5% 이하인 내화학성을 나타내는 것을 특징으로 하는 내열성 펄프상 아크릴 단섬유.2. 제1항에 있어서, 아크릴로니트릴 단독 중합체 및 공중합체가 무게비로 85% 이상의 아크릴로니트릴과 무게비로 15% 이하의 공중합체 가능한 단량체를 1종 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 내열성 펄프상 아크릴 단섬유.3. 제1항에 있어서, 아크릴로니트릴 단독 중합체 및 공중합체의 점도 평균 분자량이 50,000 내지 350,000 사이인 것을 특징으로 하는 내열성 펄프상 아크릴 단섬유.4. 제1항에 있어서, 혼합물이 중합체에 대하여 무게비로 10% 내지 50% 사이의 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 내열성 펄프상 아크릴 단섬유.5. 제1항에 있어서, 열안정화 온도가 200℃ 내지 280℃이고, 열안정화 처리 시간이 10분 내지 3시간인 것을 특징으로 하는 내열성 펄프상 아크릴 단섬유.
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일반기술
화학 > 기타 무기화학
폴리실라메닐레노실란 고분자를 열적재배열 반응시킴으로써 폴리카보실란을 제공하기 위한 것이다. <구성>폴리실라메틸렌노실란(II)을 고압반응용기에 넣은후 반응기 내부를 불활성 기체인 아르곤으로 충전한 후 상압으로 만들고 밀봉한 후 350-600도C까지 온도를 올린후 일정시간동인 유지하여 폴리실라메티레노실란이 열적재배열 반응을 일으키도록 하고 반응후 생성된 식(I)의 폴리카보실란을 250도C, 30torr에서 진공증류하여 분리하고 산화과정을 통해 표면을 경화시킨 후 1300도C의 고온에서 불활성 기체 분위기 상태로 열분해시켜 구성한다. <효과>반응의 부생성물인 염화나트륨 및 반응에 참여하지 않은 나트륨과의 분리가 쉽고 유기기의 비중이 적으며 90%의 높은 수율을 갖고 다양한 용도로 사용이 가능하다1. 다음 일반식(2)의 폴리실라메틸레노실란을 1-30기압하, 350-600℃의 온도에서 열적재배열반응시키는 것으로 됨을 특징으로 하는 일반식(1)의 폴리카보실란의 제조방법. 상기 식중, 일반식(2)에 있어서 R2는 메틸기 또는 페닐기, R3는 메틸이거나 규소와 규소의 결합이고, x,y,z,n 및 m은 상수이며, a부분은 2,4,6-트라실라헵탄, b부분은 디메틸디클로로실란, c부분은 트리클로로실란을 탈염소화시켜서 얻은 것이다.2. 제1항에 있어서, 2,4,6-트리실라헵탄이 25몰%이상 포함된 폴리실라메틸레노실란을 원료로 사용하는 방법.3. 제1항에 있어서, 디메틸디클로실란이 75몰%이하로 포함된 폴리실라메틸레노실란을 원료로 사용하는 방법.4. 제1항에 있어서, 메틸 또는 페닐기가 포함된 트리클로로실란이 10몰% 이하로 포함된 폴리실라메틸레노실란을 원료로 사용하는 방법.5. 제1항에 있어서, 폴리실라메틸레노실란의 열적재배반응을 1-20기압의 압력범위에서 수행하는 것이 특징인 방법.6. 제1항에 있어서, 폴리실라메틸레노실란의 열적재배열반응을 400~500℃의 온도범위에서 수행하는 것이 특징인 방법.
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일반기술
보건·의료 > 원료의약 대량제조 기술
일반식(I)의 광범위한 항균력을 지닐 세파로스포린 화합물 및 그의 제약학적으로 허용되는 염 및 그 제조방법을 제공한다. 세파로스포린 화합물 및 약제학적으로 허용되는 그의 염에 있어서 R1은 H, 또는 트리틸, 3급 부톡시 카르보닐, 포르밀기이고, R2는 수소, 파라-메톡시벤질, 디페닐메틸이거나 Na나 K와 같은 염을 만드는 원자이고, R3, R4는 같거나 서로 다르며, H 또는 파라-메톡시벤질, 디페닐메틸이고, Q는 수소, 클로로, 비닐, 아세톡시메틸, 할로메틸,N-에틸피리디니움일티오메틸, N-카르복시메틸피리디니움일티오메틸, N-메틸-테트라졸릴티오메틸이다. 그람양성균이나 그람음성균에서 뛰어난 항균력을 나타내므로 세파로스포린 화합물 계열 의약품에 유용하게 사용할 수 있다.1. 다음 일반식(1)으로 표시되는 세파로스포린 화합물 및 약제학적으로 허용되는 그의 염. 상기 일반식(1)에 있어서 R1은 H, 또는 트리틸, 3급 부톡시 카르보닐, 포르밀기이고, R2는 수소, 파라-메톡시벤젠, 디페닐메틸이거나 Na나 K와 같은 염을 만드는 원자이고, R3,R4는 같거나 서로 다르며, 1H 또는 파라-메톡시벤질, 디페닐메틸이고, Q는 수소, 클로로, 비닐, 아세톡시메틸, 할로메틸, N-에틸피리디니움일티오메틸, N-카르복시메틸피리디니움일티오메틸, N-메틸-테트라졸릴티오메틸이다.2. 일반식(2)의 화합물과 일반식(3)의 화합물을 아실화 반응시키는 것이 특징인 제1항의 일반식(1)의 화합물의 제조방법. 상기식에서, R1,R2,R3,R4 및 Q는 각각 제1항에서 정의한 것과 동일하다.3. 일반식(7)의 화합물과 일반식(8)의 화합물을 반응시키는 것이 특징인 일반식(2)의 화합물의 제조방법. 상기식에서 R1,R2,R3,R4 및 Q는 각각 제1항에서 정의한 것과 동일하다.
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
환경 > 대기오염제어·관리 기술 (N32, F36)
아황산가스에 대해 양호한 흡착성을 지니면서 질소산화물을 암모니아와 반응시켜 질소로 환원시키는 촉매로 작용하는 특성을 갖는 갈탄챠르를 간단한 제조공정과 낮은 제조비용으로 제조하기 위한 제조방법을 제공하는 것이다.유동층 반응기에서 입자크기 1.41mm 이하이고, 회재분 1.8% 이하의 갈탄을 원료로해서 500~800℃의 반응온도와 산소 0~6%, 수증기 0~17.9% 및 나머지 질소로 조성되는 유동화가스를 사용한다.화력발전소나 산업용 보일러 등의 고정원에서 발생하는 배연가스중에 함유된 아황산가스와 질소산화물을 제거하는데 우수한 성능을 나타낸다.1. 유동층 반응기에서 입자크기 1.41mm 이하이고, 회재분 1.8% 이하의 갈탄을 원료로 해서 500~800℃의 반응온도와, 산소 0~6%, 수증기 0~17.9% 및 나머지 질소로 조성되는 유동화가스를 사용함을 특징으로 하는 배연가스중에 함유된 아황산가스 및 질소산화물 제거용 갈탄챠르 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
화학 > 기타 무기화학
유기 주석 화합물과 알루미늄 화합물을 공촉매로 사용하여 목적 물질의 수율을 높이고 기본 물성을 향상시킨 폴리디클로로포스파젠의 제조 방법을 제공한다. 헥사클로로시클로트리포스파젠을 진공 승화법으로 정제한 다음 5g당 0.01-0.05g의 염화알루미늄과 0.01-0.05g의 유기 할로겐화주석 R2SnX2를 공촉매로 첨가하여 유리 앰플에 넣고 진공하에서 탈공기한 다음 230-270도C에서 용융 중합시키면 폴리디클로로포스파젠이 수득된다. 식에서 R은 CH3, C2H5, N-C3H7, N-C4H9, 또는 C6H5이고 X는 염소, 브롬 등의 할로겐 원소이다. 생성물의 수율은 95% 이상으로 높고 불용성 물질이 생성되지 않으며, 고분자 물질의 분자량도 1,000,000 이상으로 물성이 크게 개선된다.1. 헥사클로로시클로트리포스파렌을 용융중합하여 폴리디클로로포스파젠을 제조하는 방법에 있어서, R2SnX2를 촉매로 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법. 단, R은 CH4, C2H5, n-C3H7, n-C5H8, 또는 C2H5이고 X는 할로겐원소이다.2. 헥사클로로시클로토리포스파젠을 용융중합하여 폴리디클로로포스파젠을 제조하는 방법에 있어서, R2SnX2로 표시되는 화합물과 AlCl3를 공 촉매로 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법.단, R은 CH3, C2H5, n-C3H7, n-C4H9, C9H8이고 X는 할로겐 원소이다.3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응온도를 230-270℃로 하는 것을 특징으로 하는 제조방법.4. 제1항에 있어서, 출발물질에 대하여 R2SnX2를 0.1~1.0%를 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법.5. 제2항에 있어서, 출발물질에 대하여 R2SnX2를 0.2~1.0% AlCl3를 0.2~1.0%를 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 금속재료
자속 밀도가 높고 열적 안정성이 우수하며 자기 변형이 작아 고주파수 영역에서 사용 가능한 고투자율 저보자력의 Fe-Hf-B 3원계 비정질 합금 특히 자심 재료로 사용하기에 적합한 Fe계 비정질 합금을 제공한다. Fe 78-85 원자%, Hf 6-9 원자%, B 9-13 원자%를 주성분으로 모합금을 진공 아크 용해법 또는 고주파 유도 가열법을 이용하여 용해시키고, 이 모합금을 석영관에 넣고 진공 및 불활성 기체 분위기를 유지할 수 있는 단롤형 용탕 급냉 장치를 이용하여 약 1-1.5 kg/cm2 압력의 아르곤 기체를 분사하고, 노즐을 통하여 약 37.5+-5 m/초의 선속도로 회전하는 구리제 냉각 롤의 표면에 용탕을 분사시켜 두께 20 마이크로미터의 비정질 합금 리본을 제조한 후, 이 비정질 합금 리본을 10^-4 torr이하의 진공중에서 퀴리 온도 이상 결정화 온도이하의 적정 온도에서 열처리시킨 후, 수냉시켜 비정질의 합금을 제조한다.1. Fe 78 내지 85원자%, Hf 6 내지 9원자% 및 B 9 내지 13원자%로 이루어진 모합금을 마련하고, 이 모합금을 용해시킨 용탕을 급냉시켜 비정질화시키고, 이것을 열처리한 후 냉각시키는 것을 특징으로 하는 Fe-Hf-B 3원계 비정질 연자성 합금의 제조 방법.2. Fe 78 내지 85원자%, Hf 5 내지 9원자% 및 B 9 내지 13원자%를 주성분으로 하는 Fe-Hf-B 3원자계 비정질 연자성 합금.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
(1※Y-Z)PB(MG1/3NB2/3)O3 + XPBTIO3 + YCAO + ZCUO 여기서, X=1~15MOL%, Y=0.1~2.0MOL%, Z=1~15MOL% 으로 이루어진 것을 특징으로 하는 저온소성용 세라믹 유전체 조성물.1. 다음의 조성으로 이루어지는 저온소성용 세라믹 유전체 조성물 :여기서, x=0.01∼0.15, y=0.001∼0.02, z=0.01∼0.15m
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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